Intel инвестирует 829 млн (примерно $1,0 млрд) в научно-исследовательские программы ASML с целью ускорить разработку новых технологий производства 450-мм подложек и экстремальной ультрафиолетовой литографии (ЭУЛ).
∙На первоначальном этапе Intel также приобретет 10% акций ASML* на сумму 1,7 млрд (примерно $2,1 млрд) и позже купит дополнительные 5% акций в рамках программы ASML.
∙Общая сумма инвестиционных соглашений и соглашений по финансированию составит 3,3 млрд (примерно $4,1 млрд).
Intel объявила о заключении соглашений с ASML Holding N.V., призванных ускорить развитие технологии производства 450-мм подложек и экстремальной ультрафиолетовой литографии (ЭУЛ). Общая сумма соглашений составит 3,3 млрд (примерно $4,1 млрд). Основная задача заключается в том, чтобы сократить на два года срок ввода в эксплуатацию оборудования для литографии. Это позволит производителями полупроводниковых компонентов сократить расходы и получить ряд других преимуществ.
Для решения этой задачи Intel принимает участие в специальной программе, которая включает в себя финансовую поддержку научно-исследовательских проектов и долевые инвестиции в ASML. На первом этапе этой программы Intel инвестирует 553 млн (примерно $680 млн) для содействия ASML в ускорении разработки инструментов для производства 450-мм подложек. Объем долевых инвестиций составит 1,7 млрд (примерно $2,1 млрд). Эти средства будут потрачены на приобретение примерно 10% акций ASML.
Реализация второго этапа программы зависит от решения акционера ASML. На втором этапе Intel дополнительно вложит 276 млн (примерно $340) в исследования и разработки ASML в области ЭУЛ и потратит на долевые инвестиции 838 млн (примерно $1,0 млрд) для приобретения дополнительных 5% акций ASML.
В результате сделок Intel будут принадлежать 15% всех акций ASML*. Общая сумма долевых инвестиций составит 2,5 млрд (примерно $3,1 млрд). Также в рамках этих соглашений Intel разместит заказы на приобретение у ASML* оборудования для разработки и производства 450-мм подложек и ЭУЛ.
Оба этапа этой программы регулируются стандартными условиями заключения сделок, включая утверждение органов государственного регулирования. Компании надеются, что оба этапа сделки будут завершены после голосования акционера компании в третьем квартале.
Общий итог соглашений
В рамках этой программы ASML заявила о намерении продать до 25% своих акций Intel и другим производителям полупроводниковой продукции. В настоящий момент ASML ведет переговоры с другими компаниями и публично заявила о том, что она надеется, что другие компании примут участие в научно-исследовательской программе и долевом инвестировании. Независимо от результатов переговоров ASML с другими компаниями и после завершения этой программы участие Intel в капитале ASML не превысит 15% акций и будет регулироваться ограничениями по блокировке сделки и результатам голосования.
Intel планирует использовать наличные денежные средства и средства оффшорных дочерних структур для финансирования научно-исследовательской деятельности и для долевого инвестирования в ASML.
Наиболее важным аспектом этой сделки является дополнительное финансирование, которая она предоставляет ведущей в отрасли программе компании ASML по разработке ЭУЛ. При совместном использовании с 450-мм подложками ЭУЛ предоставит преимущества более высокой производительности и экономической эффективности как Intel, так и другим производителям полупроводниковой продукции. Intel приняла участие в создании первого консорциума, связанного с ЭУЛ, в 1997 г. С помощью этих инвестиций в ЭУЛ ASML* и Intel надеются помочь отрасли перейти на новую технологию.
<Мы очень рады, что Intel приняла решение об инвестировании. Это окажет поддержку всем производителям полупроводников продукции в отрасли, - сказал Эрик Мерис (Eric Meurice), президент ASML*. - Мы надеемся, что в ближайшее время мы сможем объявить о том, что другие компании приняли решение об инвестировании>.
<Повышение производитель-ности, связанное с внедрением новых технологий производства подложек и ультрафиолетовой литографии, позволяет продолжить развитие Закона Мура и предоставить значительные экономические преимущества заказчикам, - сказал Брайан Кржанич (Brian Krzanich), старший вице-президент и генеральный директор по производству корпорации Intel. - В прошлом переход с подложек одного размера на подложки другого позволял уменьшить расходы на кристаллы на 30-40%, и мы надеемся получить аналогичные преимущества в этот раз при переходе от 300-мм к 450-мм подложкам. Чем быстрее мы сможем сделать это, тем раньше сможем повысить производительность и предоставить нашим заказчикам и акционерам дополнительную выгоду>.
