Внедрение новых литографий позволит разработать еще более новые устройства. Внедрение технологии требует улучшений в процессе производства.
Внедрение 10-нанометрового технологического процесса оказалось серьезной проблемой для Intel. Однако это не означает, что производитель не работает над еще более новыми технологиями производства процессоров. В ходе конференции, проходящей в Пекине, были обнародованы планы по внедрению новых литографических процессов.
По предоставляемой информации, производитель достиг удовлетворительного уровня 10-нанометровой литографии и до конца года планирует начать массовое производство таких процессоров.
Новая технология будет использоваться для производства моделей Ice Lake для ноутбуков и серверов Snow Ridge для связи 5G, а также революционных, многослойных процессоров Lakefield.
В ходе конференции также было изложено общее направление развития литографических процессов. После 10-нанометров технологии, планируется реализация 7 нм, 5 нм и 3 нм. Правда, производитель не уточнил сроки ввода отдельных процессов, но темпы развития будут постепенно снижаться.
Компания Intel также подчеркнула, что внедрение последующих, более низких литографических технологий, потребует внедрения улучшений в процесс производства интегральных схем. Речь идет не только об изменении конструкции процессоров на 3D и технологии EUV, но и о введении новых материалов.
По информации https://hi-tech.news/science/746-intel-obeschaet-vnedrit-novye-litografii-v-planah-7-nm-5-nm-i-3-nm.html
Обозрение "Terra & Comp".
